半個(gè)世紀(jì)以來(lái)，微電子技術(shù)迅速發(fā)展。隨著信息技術(shù)的不斷擴(kuò)展和深化，芯片制造工藝制程已減小到?5nm?以下。芯片相當(dāng)于電子行業(yè)的“大腦”。雖然只有指甲那么大，但需要在芯片板上放置數(shù)十億個(gè)納米級(jí)晶體管。在芯片生產(chǎn)過(guò)程中，80%以上的工藝需要化學(xué)處理，而每一種化學(xué)處理都離不開水。因此，芯片行業(yè)對(duì)生產(chǎn)用水的質(zhì)量有著非常嚴(yán)格的要求，因?yàn)橐坏┧|(zhì)不合格或水中含有雜質(zhì)，就會(huì)降低器件的性能，降低成品率。芯片生產(chǎn)過(guò)程中需要水質(zhì)達(dá)到超純水標(biāo)準(zhǔn)。芯片行業(yè)使用的水是否合格也決定了產(chǎn)品能否合格出廠。因此，EDI超純水系統(tǒng)已成為芯片行業(yè)的“決勝點(diǎn)”。

　　EDI超純水系統(tǒng)通常由石英砂過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、阻垢劑、精密過(guò)濾器等組成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透系統(tǒng)、EDI超純水系統(tǒng)等組成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)，高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)和控制儀表，電氣采用PLC可編程控制器，真正實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守，使該超純水工藝與其他工藝相比具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。

　　EDI超純水系統(tǒng)設(shè)計(jì)采用成熟、可靠、高度自動(dòng)化的兩級(jí)RO+EDI+拋光混床除鹽水處理工藝，確保處理后的水電阻達(dá)到18MΩ.CM以上。反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)也安裝在設(shè)備內(nèi)部，再次從根本上保證了設(shè)備的出水質(zhì)量。同時(shí)，EDI超純水系統(tǒng)產(chǎn)生的廢水量小，不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染，具有很高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益，具有廣闊的發(fā)展前景。

　　以上即為超純水對(duì)于芯片生產(chǎn)這么重要嗎的全部?jī)?nèi)容，更多超純水相關(guān)資訊敬請(qǐng)期待。