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半導體材料清洗用水為何選用超純水設備?

2022-09-30

  隨著智能化、5G技術、新能源汽車等科技的進步,對于半導體的需求也在逐漸上漲。在我國“十四五”規(guī)劃期間,明確了將培育集成電路產(chǎn)業(yè)體系、大力推進先進半導體等新興前沿領域創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化作為近期發(fā)展重點。

  半導體材料是在集成電路、消費電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電等領域進行應用的。半導體材料在應用中會需要一定量的超純水,可用于清洗,該超純水電阻率達到了18兆歐,不含導電介質和金屬離子,可滿足作為半導體清洗用水的需求。

  萊特萊德超純水設備采用兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,處理后的水質可達到18MΩ.CM以上,符合半導體用水標準。設備采用如今大熱的膜技術,可有效去除水中的導電介質,以及水中不離解的膠體物質、氣體及有機物,設備的出水純度高,無病毒與細菌,不含任何懸浮物、無化學污染,產(chǎn)出的可謂是高品的超純水了。設備還設有在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,在無人值守的狀態(tài)下也可平穩(wěn)運行。

  綜上,萊特萊德超純水設備滿足了半導體清洗用水需求。并且設備的設計較為緊湊,占地空間小,在出廠前會進行嚴格的檢驗,以確保設備無故障,在日常維護和操作過程種也是非常簡單。總體來說萊特萊德一直專注電子超純水領域,是集研發(fā)設計、設備制造、工程施工、運營維護為一體的環(huán)保解決方案服務商。

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