熟悉半導體領域的人都知道晶圓,簡單來說晶圓是指制作硅半導體積體電路所用的硅晶片,其原始材料是硅,我們也稱之為硅晶圓。我們常見的硅晶圓是一種厚度大約在1mm(毫米)以下,呈圓形的硅薄片,可別小看這樣的硅薄片,它可是半導體產(chǎn)業(yè)中“地基”一樣的存在。在硅晶圓生產(chǎn)中我們不可忽視任何一道工序,包括清洗用水也要很小心,需要采用高純度的超純水方可清洗硅片表面,不然會造成硅片表面吸附著污染物。
那么硅晶圓的生產(chǎn)需要什么樣的超純水設備產(chǎn)出高質量的超純水呢?目前,在硅晶圓生產(chǎn)中采用預處理+反滲透+EDI+拋光混床組合形式的超純水設備可是深受歡迎的,也是實踐效果較好的處理工藝組合。應用該組合工藝的超純水設備具有高效低能、運行成本低,水資源利用率高、運行的時間長等優(yōu)點。并且該設備不會因為樹脂再生而停止運行,設備結構設計比較嚴密,所以其占地面積非常小,可以為企業(yè)節(jié)省大量空間。不得不說的是工藝中的EDI模塊,在處理過程中不需要添加任何化學品,不僅減少了化學品運輸問題,同時降低了系統(tǒng)運行費用。本模塊不會有酸堿廢液產(chǎn)生,所以不需要酸堿中和池,一般情況下,EDI水處理系統(tǒng)產(chǎn)出的濃水完全可以回收再利用。
整套設備主要是消耗電量來維持系統(tǒng)運行,其耗電量比傳統(tǒng)混床工藝低,無需樹脂更換,自動化性能強,無需人工操作。這樣的EDI超純水設備完全符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質標準,產(chǎn)水水質符合GBT 11446.1-2013電子級水或ASTM D5127-13標準,而且還滿足了各種工業(yè)用水的不同需求。
以上就是全文。全文講完后大家都了解了什么樣的超純水設備符合硅晶圓生產(chǎn)需求了吧。隨著科技的不斷進步,半導體行業(yè)不斷的發(fā)展,使得硅晶圓的市場需求也在不斷增加,超純水的需求也在悄然的增加。
轉載時請注明文章來源“萊特萊德”,否則視為侵權,感謝配合。
編輯:柒柒 技術:米
企業(yè)網(wǎng)址gokda.cn
咨詢熱線021 3100 9988
電話熱線010 5165 9999
版權所有:萊特萊德·水處理 遼ICP備12004418號-76 遼公網(wǎng)安備21012402000201號