迄今，能源、材料和信息被認為是新興新技術革命的三大支柱。在材料方面，電子材料的發(fā)展尤為引人注目。劃時代的半導體生產(chǎn)新技術、新材料、新儀器不斷涌現(xiàn)，迅速成為生產(chǎn)力和生產(chǎn)工具，在一定程度上促進了集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。

　　半導體工業(yè)在生產(chǎn)過程中需要大量的清洗水。隨著半導體工業(yè)的不斷發(fā)展，對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles的要求也越來越嚴格。由于半導體超純水對多項指標的要求較高，超純水不同于它他行業(yè)對水的要求，半導體行業(yè)對超純水的水質要求較為嚴格。目前，我國常用的超純水標準是國家標準《電子級水》(GB/T1446.1-2013)和美國標準《Standardguideforultra-Purewartertertelecteronicteronictonictenducterinductes》(Astm-D5127-13)。

　　超純水設備可連續(xù)穩(wěn)定地制備優(yōu)質超純水，水質穩(wěn)定在ppt水平，特別是硼離子可≤5ppt，可更好地幫助半導體企業(yè)的發(fā)展，形成更強的企業(yè)競爭力。

　　超純水設備采用兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，設計成熟、可靠、自動化程度高，保證處理后出水電阻率達到18mΩ。CM以上。EDI處理裝置廢水產(chǎn)量少，不會污染環(huán)境，具有很高的環(huán)境效益和經(jīng)濟效益。經(jīng)過技術升級，精混床無需任何操作即可穩(wěn)定運行兩年。其出水水質能滿足芯片生產(chǎn)用水的相關標準，降低企業(yè)生產(chǎn)風險和成本。在萊特萊德EDI超純水設備的大力支持下，半導體行業(yè)的繁榮將繼續(xù)上升。